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技術移轉公告


壹、主旨:

公告本中心研發成果,歡迎業者申請技術移轉。技術移轉對象應符合下列各項規定為原則:
一、有償:以公平、公開及有償方式為之。
二、非專屬:以公立學校、公立研究機關 (構)、公營事業、法人或團體為對象。
三、國內優先:在我國管轄區域內製造使用。


貳、公告事項說明:

    訊息種類 技術名稱 技術分類 公告日期
    技轉公告 活體生物病徵檢測用之多波域光學成像技術 ■光電系統 2017-04-19
    技轉公告 液態前驅物傳輸方式 ■半導體 ■材料製程 2016-05-05
    技轉公告 電漿輔原子層沉積製程之間歇噴射電漿裝置 ■半導體 ■材料製程 2016-05-05
    技轉公告 封閉式流道反應槽系統製造觸媒或支撐材料的方法 ■半導體 ■材料製程 2016-05-05
    技轉公告 曝光機用廣波域特定波長衰減片製作技術 ■半導體 ■材料製程 2017-02-15
    技轉公告 光學式檢測儀應用於尿液自由基之檢測技術與方法 ■醫療保健 2017-02-15

參、技術移轉處理流程說明

→請參考技術移轉處理流程說明

更新日期:2017 年 4 月 19 日