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真空技術組簡介 |
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佈 告 欄 |
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研究成員 |
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專利與著作 |
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光學薄膜設備及製程技術 |
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研究目的: 本中心為因應光電高科技產業及學術研究之需求，已建立一系列薄膜光學、物理、化學及機械性質分析檢測技術，包括X光繞射儀、光譜式橢圓偏光儀、表面輪廓儀、四點探針量測儀、分光光譜儀、稜鏡偶合量測儀、刮傷測試儀及薄膜測厚儀等，並提供薄膜檢測技術服務。 |
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薄膜測試實驗室 |
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原子層沉積技術(ALD) |
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脈衝雷射蒸鍍系統(PLD) |
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化學束磊晶系統(CBE) |
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技術能量: 1.光學性質分析 2.光電特性分析 3.機械性質分析 4.結晶性分析
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奈米球模板 |
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系統委製維修技術服務 |
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CNLA認證真空校正實驗室 |
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規 格: 試片製備: 依各分析儀器指定 |
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應用領域: 1.薄膜厚度、折射率及消光係數 2.ITO, IZO及LED光電特性檢測 3.薄膜表面粗糙度、附著性及應力分析 4.X-ray晶體結構與成分分析 |
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