真空技術組簡介

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研究成員

專利與著作

光學薄膜設備及製程技術

研究目的:

奈米球模板技術為成長奈米結構材料之重要製程,其原理係以自組裝奈米球作為模板,快速地製作大面積週期性奈米結構,可結合相關真空薄膜及微機電製程可開發各種奈米顆粒陣列、奈米碳管與模仁結構。

薄膜測試實驗室

原子層沉積技術(ALD)

脈衝雷射蒸鍍系統(PLD)

化學束磊晶系統(CBE)

奈米球模板

系統委製維修技術服務

技術能量:

1.III-V 族氮化物磊晶片成長

2.低維度光電材料製備

3.in-situ即時監控磊晶成長

 

CNLA認證真空校正實驗室

規      格:

1.奈米球尺寸:  200、400、800、10002000 nm

2.奈米顆粒陣列:Pt、Au、Ni、FePt,

尺寸:~ 100 nm

3.奈米蜂窩結構:Fe2O3、NiO、ZnO,

高度:< 20 nm

4.奈米反應槽:  Au、Pt,

                    尺寸:~ 100 nm

應用領域:

1.光學元件:光子晶體、生醫元件、非線性光學元件

2.奈米元件:奈米反應槽、奈米場發射元件

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