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ALD 聯合實驗室管理辦法

實驗室空間與提供服務

為促進產學研界ALD製程與前驅物研發能力,提升國內半導體競爭優勢,本中心成立 ALD 聯合實驗室,實驗室規劃如(圖一 A)所示,本實驗室目前規畫如圖二所示三套 ALD 系統,可提供相關單位 ALD 製程與前驅物驗證服務,其系統規格如表一所示;本實驗室亦規畫手套箱作為化學藥品暫存空間(圖一 B),及提供業務機密保護室(圖一 C)與電子式保險箱作為儲放製程參數 USB 硬碟之用。

表一、ALD系統規格

 基板尺寸基板溫度反應氣體電漿
Test bed ALD系統1吋350Ar、NH3、H2
研究型ALD系統8吋400Ar、NH3、H2、O2ICP電漿
On-site ALD系統12吋400Ar、NH3、H2CCP電漿

圖一、儀科中心一樓平面圖。
圖二、ALD聯合實驗室提供服務之ALD製程機台。

更新日期:2015 年 2 月 3 日